2025年11月14日至16日，第十一届中国原子层沉积会议（C-ALD 2025）将于中国广州举行。原子层沉积（ALD）技术作为一种面向纳米和亚纳米薄膜以及纳米颗粒的制备技术，具有精确的原子层级厚度调控能力、极好的共形生长特性、近乎化学计量比的化学组成，以及较低的生长温度，现已被广泛应用于微电子、光电子、催化、能源、光学涂层、抗腐蚀层、生物医用材料等多个领域。本次会议旨在共同探讨ALD技术的最新研究成果、应用进展与发展趋势，促进产学研深度融合与共同发展。

颐光科技作为光学薄膜与纳米结构测量解决方案提供商，将携核心技术产品与解决方案亮相本次大会，我们诚挚地邀请您莅临颐光展位交流探讨。