8月4日，以“先进光电技术·智能绿色制造”为主题的第十六届全国MOCVD学术会议在安徽屯溪盛大开幕。“一代材料，一代器件，一代工艺，一代装备”。装备强则国强，当前阶段,高端装备与核心装置是“大国重器”,是我国成为制造强国的基础。高端科技就是现代的国之利器。此次会议吸引了近500位专家学者以及企业代表参加，助力MOCVD关键设备及技术产学研用合作，加速先进光电技术与智能绿色制造国产化进程。

      此次武汉颐光科技受组委会邀请参加会议，介绍椭偏测量技术在MOCVD后端工艺表征的诸多应用。AlGaN、GaO、AlN等宽禁带半导体材料以其直接可调宽带隙、高电子密度和迁移率、高击穿电场、高热稳定性和化学稳定性、抗腐蚀、抗辐射等诸多优势可以广泛应用于LED、探测器等光电子器件中，椭偏仪通过对膜厚和光学常数的精确测量，乃至带隙测量，可以对成膜工艺的进行评估，为后续研发设计提过新思路。

      闭幕大会上，经过大会程序委员会专家商议，2022年第十七届全国MOCVD学术会议由中国有色金属学会、国家半导体照明工程研发及产业联盟、第三代半导体产业技术创新战略联盟主办，中国科学院半导体研究所、半导体照明联合创新国家重点实验室联合承办，将于山西召开。期待大家提前蓄能为两年后的2022年的相聚做好准备。