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    SE-Mapping光谱椭偏仪
    Mapping系列光谱椭偏仪是全自动高精度Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。
  • 一、概述

    SE-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块,通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。

    全基片椭偏绘制化测量解决方案;

    ■ 支持产品设计以及功能模块定制化,一键绘制测量;

    ■ 配置Mapping模块,全基片自定义多点定位测量能力;

    ■ 丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力

    二、产品特点

    ■ 采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm);

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    ■ 高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集;

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    ■ 具备全基片自定义多点自动定位测量能力,提供全面膜厚检测分析报告;

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    ■ 数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料;

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    三、产品应用

    广泛应用OLED,LED,光伏,集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。

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    建议配件

    ME-L0.png

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    真空泵透射吸附组件


  • 技术规格

    SE-Mapping参数.JPG

  •  下载链接


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      发布时间:2021-08-08 15:06

      永久有效


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