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    SE-Mapping光谱椭偏仪
    Mapping系列光谱椭偏仪是全自动高精度Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。
  • 概述

    SE-Mapping  光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块,通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。

    。全基片椭偏绘制化测量解决方案

    。支持产品设计以及功能模块定制化,一键绘制测量

    。配置Mapping模块,全基片自定义多点定位测量能力

    。丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力

    产品特点

    采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm);

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    高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集;

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    具备全基片自定义多点自动定位测量能力,提供全面膜厚检测分析报告;

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    数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料;

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    产品应用

    广泛应用OLED,LED,光伏,集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。

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    建议配件

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    真空泵透射吸附组件


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    文件大小: 0 MB
    版本: 1.8.1
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