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IC集成电路检测解决方案
  • 行业背景

     IC设计(Integrated Circuit Design)称为集成电路设计,在纳米制程工艺中,集成电路的精细度很高,而且精度越高,生产工艺越先进。当处理器内部集成了更多的晶体管后,芯片就能实现更多的功能,这也直接降低了处理器的生产成本。但随着集成电路中的工艺节点越来越小,关键尺寸测量也同样面临巨大挑战,如何测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙度等几何形貌信息就显得极为重要。

    纳米光栅.jpeg

    解决方案

    通过ME-L穆勒矩阵椭偏测量获取到16组偏振信息,进而更精准的得到椭偏参数(Ψ :振幅比,△:相位差),通过内置数百个光学模型进行拟合,然后测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙度等几何形貌信息。

    1)建立光学模型

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    2)偏振元素信息

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    测试案例

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    关联产品与配置

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    ME-Mapping光谱椭偏仪SE-VF光谱椭偏仪椭偏仪在线监测装备



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      发布时间:2021-08-08 15:06

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