原子层沉积（ALD）作为一种自限制生长的纳米级成膜技术，具有精确的原子层级厚度控制、高度的共行覆盖能力、近乎化学计量比的化学组成，以及降低的生长温度等优点，现已被广泛应用于微电子、光电子、催化、能源、光学、防护、生物医用材料等领域。

 第九届中国原子层沉积会议（CALD 2021）在长春召开，本次研讨会旨在为本领域专家学者提供了解国内外ALD工艺、前驱体源和设备技术等方面最新发展动态的交流平台，进一步推动我国ALD技术的快速发展。分享专业领域的最新进展，探索未来的发展方向！大会主题涵盖了原子层沉积材料工艺与理论、原子层沉积技术的应用等领域。

 椭偏仪是一种利用光的偏振态改变信息来分析样品的重要科学仪器，广泛应用于材料光学常数、薄膜厚度等参数的测量表征，在原子层沉积(ALD)薄膜成核过程原位测量中具有典型的应用。颐光科技作为国内高端椭偏仪以及光学纳米测量设备研发、制造为一体的高新技术企业，具有成熟的膜厚及光学常数测量表征解决方案，为广大用户提供仪器、软件等综合服务。

 会议时间：2021.07.27-30日

 会议地点：长春香格里拉大酒店（长春市西安大路569号）

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