2016年11月19日-21日，武汉颐光科技有限公司赴广西南宁参加了第二届全国偏振与椭偏测量研讨会。本次会议由广西大学与华中科技大学联合主办，广西大学物理科学与工程技术学院、华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室联合承办。这是继2014年“第一届全国椭圆偏振光谱学研讨会”在华中科技大学召开后又一次全国范围的学术活动，吸引了来自国内高校、科研院所和企事业单位的专家、学者近200人参加，研讨内容涉及偏振与椭偏研究的所有领域，内容涵盖偏振与椭偏基础理论、偏振与椭偏仪器开发、偏振与椭偏测量应用等多个方面，充分展示了我国在偏振与椭偏测量研究领域所取得的最新进展与成果。

在11月19日上午8点15分，“第二届全国偏振与椭偏测量研讨会”在广西南宁相思湖国际大酒店正式开幕。颐光科技创始人、华中科技大学刘世元教授作为会议组委会共主席在会议开场介绍会议发起与筹备情况。

在会上，颐光科技技术总监、华中科技大学江浩副教授做题为“穆勒矩阵椭偏仪研制与应用研究新进展”的报告。详细介绍了最近两年武汉颐光科技有限公司联合华中科技大学NOM研究组在高精度宽光谱穆勒矩阵椭偏仪自主研制及其在结构各向异性表征、材料各向异性表征、二维材料表征、曲面薄膜测量原位过程监测、以及分子扩散过程捕捉等方面的应用。分别针对穆勒矩阵椭偏仪缺乏横向分辨率以及在非周期性纳米结构测量中的限制，介绍了面向大面积测量的宽视场高分辨成像椭偏仪与面向任意复杂结构测量的层析穆勒矩阵散射仪两种新仪器的研制与应用研究进展。最后，江浩副教授结合这些最新研究进展，对穆勒矩阵椭偏仪的潜在应用前景与未来的研究方向做出展望。

武汉颐光科技有限公司全力准备积极参展研讨会，并向众多国内高校、科研院所和企事业单位的专家、学者展示了颐光科技的多种高端膜厚、椭偏系列产品以及在行业应用中各种案例，吸引大批客户驻足参观和询问。颐光科技总经理张传维博士在现场耐心向各位专家学者、技术同行广泛深入地介绍颐光科技的产品以及技术优势，愿积极展开合作，共同推进我们偏振与椭偏测量技术的技术水平。